应用:
高聚物材料表面改性
表面清洗,如PCB、FPC、电子元件和医疗器材等
半导体表面去胶
产品特性:
本品采用远程微波等离子体(Remote Microwave Plasma),等离子体产生效率高,样品处理均匀;
真空系统采用2XZ-2型旋片真空泵,极限真空6×10^-2帕;
2~4路气体输入,1路或2路进入微波等离子体源处形成远程等离子体进入反应室,另外的气路由反应室内顶部(样品台上方)呈环形均流输入。可用氮气、氧气、氦气和大气等常用气体;
等离子体发生区中心距反应室顶部距离为400mm~600mm,可根据用户实际需要加工的材料,对等离子体强度进行订制。